Cât de critică este puritatea gazului în producția de semiconductori?
Consens general în fabricarea semiconductorilor
Un consens bine-stabilit predomină în fabricarea semiconductoarelor: limita superioară a performanței cipului este definită de proiectare, în timp ce limita inferioară a randamentului de producție depinde de puritatea materialului.
Imaginea este preluată de pe internet.
Lista completă a gazelor din spatele unui singur cip
De la curățarea plachetelor și depunerea de pelicule subțiri la gravare și dopare, procesul de producție pentru o singură napolitană de 12-inch implică peste 30 de tipuri de gaze de proces, inclusiv silan, amoniac, trifluorura de azot, hexafluorura de wolfram, clorura de hidrogen și multe altele. Fiecare gaz trebuie livrat în camera de reacție la puritate ultra-înaltă.
Urmele de impurități la nivel de ppb (umiditate, oxigen, particule) care intră în conductele de gaz pot declanșa defecte de peliculă subțire-și contaminarea interfeței, reducând direct randamentul de producție. Luând ca exemplu procesul de 3 nm, fiecare cip individual valorează sute de dolari SUA; doar o fluctuație de 1% a randamentului este suficientă pentru a șterge profituri evaluate la zeci de milioane.
De ce „puritatea ridicată” nu este suficientă?
În industria semiconductoarelor, „puritate ridicată” nu echivalează cu „proces{0}}gata”. Adevărata provocare constă în reținerea purității - menținerea gazului fără contaminare-pe întreaga cale de livrare de la sursa de gaz la punctul de utilizare (POU).
Trei măsuri de protecție de bază funcționează în tandem pentru a realiza acest lucru:
(1) Selectarea materialului: Tuburile și corpurile supapelor sunt fabricate din oțel inoxidabil 316L dublu refopit VIM+VAR pentru a minimiza degajarea elementară din materialele de bază.
(2) Finisarea suprafeței: Rugozitatea suprafeței interioare Ra Mai mică sau egală cu 0,25 μm (10 μin.) cu tratament de electrolustruire (EP) pentru a reduce aderența particulelor și absorbția de umiditate.
(3) Integritatea etanșării ermetice: Rata de scurgere a heliului Mai mică sau egală cu 1×10⁻⁹ atm·cc/sec pentru a bloca în întregime pătrunderea contaminării externe.
Soluții de livrare a gazelor semiconductoare
Linia de produse VIGOR VUPS Ultra-High Purity acoperă întregul lanț de livrare a gazului, care respectă standardele SEMI, inclusiv fitinguri de etanșare cu fața metalică VCR-, supape cu diafragmă de-puritate ridicată și regulatoare de presiune în două-etape.
Toate produsele sunt asamblate, testate și ambalate cu dublu-sac aspirator-în camere curate clasa 100 înainte de expediere. Ceea ce primesc clienții nu sunt doar supape individuale, ci un sistem complet de asigurare a purității ultra-and-play.
Produsele VIGOR au funcționat în mod fiabil în sistemele speciale de livrare a gazelor și conductele de alimentare cu gaz CVD/PVD la numeroase fabrici de napolitane, compatibile cu gazele de proces critice, cum ar fi silanul, trifluorura de azot și triclorura de bor.
Producția de semiconductori este o cursă fără sfârșit împotriva contaminanților - și misiunea VIGOUR este să asigure cea mai curată linie de start posibilă pentru această cursă.
